Mekious SalihaOumohand Ziad2025-04-152025-04-152023MicroélectrniqueMAST.ELN.70-23https://dspace.ummto.dz/handle/ummto/2726080p .; ill .; 30cm (CD-ROM)Dans ce travail, nous avons étudié l'effet de la température et de la durée de diffusion du phosphore à partir des couches PSG sur la jonction n+. Cela se fait en utilisant un four à tube de quartz, des plaquettes de silicium multi-cristallin de type « p » et des sources de préforme comme source de phosphore. Nous avons caractérisé nos échantillons par diverses techniques de caractérisation tel que :- Les mesures de la durée de vie de nos échantillons par la technique QSSPC. - Les mesures électriques pour la détermination des propriétés électriques de nos échantillons par les techniques "pointe chaude", "quatre pointes" et "Effet Hall". - Informations moléculaires et nature chimique de nos échantillons analysés par spectroscopie infrarouge à transformée de Fourier (FTIR).frDiffusionPré-dépôtPSGDrive-inFTIRQSSPCEtude de l’effet de la température et de la durée de diffusion du phosphore à partir des couches PSG sur la jonction PN.Thesis